合肥科晶多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐

產(chǎn)品概述：

OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐，此款設(shè)備主要包括混氣裝置，加熱爐，基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成。可與*分子*光器配合，進行脈沖激光蒸發(fā)鍍膜，而且靶材濺射腔體內(nèi)可安裝3塊靶材，可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發(fā)。此款設(shè)備特別適合制作多元化合物薄膜。

產(chǎn)品特點：

• 可與*分子激光器配合進行PLD制膜

• 腔體內(nèi)部可安裝多塊靶材，進行多靶激光蒸發(fā)

• 腔體內(nèi)部靶材可旋轉(zhuǎn)

• 可對基片加熱（溫度可達1200℃）

加熱爐（對基片加熱）：

• 雙層殼體結(jié)構(gòu)，并帶有風冷系統(tǒng)，使殼體表面溫度小于60℃

• 加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金（表面涂有氧化鋯涂層）

• 工作溫度：1200℃

• 大功率：1.2KW

合肥科晶多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐 腔體：

• 基片加熱腔體為高純石英材料

• 靶材蒸發(fā)腔體為不銹鋼材料

• 靶材蒸發(fā)腔體內(nèi)可安裝3塊靶材，并且靶材可旋轉(zhuǎn)（轉(zhuǎn)速：0-30rmp）

• 兩個腔體通過卡箍式法蘭連接

真空系統(tǒng)（選配）：

• 10-2Torr(采用機械泵)

• 10-5Torr(采用渦旋分子泵)

• 可在本公司購買各種真空泵

窗口：

• 采用藍寶石（Al2O3）

• 尺寸：Φ25*0.5mm

• 允許激光的入射角度為30°-90°

壓力控制系統(tǒng)：一套壓力控制系統(tǒng)安裝在儀器的腔體上，可保證腔體內(nèi)部的氣壓恒定與混氣系統(tǒng)配合使用，可保證蒸發(fā)腔體中各種氣體的分壓恒定；

混氣系統(tǒng)：

• 配有2路質(zhì)量流量計混合系統(tǒng)

• 混氣罐尺寸：Φ80X120mm

• 大氣壓：3×106Pa

• 精度：±1%FS

• 質(zhì)量流量計量程：1:1-199sccm；2:1-499sccm

• 可按客戶要求訂制其他量程的質(zhì)量流量計

• 可選購3-5路混氣系統(tǒng)

等離子射頻電源（可選購）：可在設(shè)備上安裝300W等離子射頻電源，使腔體內(nèi)的氣體等離子化，達到等離子化激光蒸發(fā)反應(yīng)鍍膜

儀器尺寸：1300mm*1260mm*820mm

質(zhì)量認證：

• CE質(zhì)量認證

• 所有電器元件（>24V）都通過UL/MET/CSA認證

• 若客戶出認證費用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認證或CAS認證